拓荊科技(688072)4月30日披露2025年第一季度報告，報告期內，公司實現營業收入7.09億元，同比增長50.22%；實現凈利潤-1.47億元；基本每股收益-0.53元。

拓荊科技是國內量產型PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、SACVD（次常壓化學氣相沉積）、HDPCVD（高密度等離子體增強化學氣相沉積）、超高深寬比溝槽填充CVD等薄膜沉積設備和混合鍵合設備的領軍企業。

拓荊科技目前已經形成半導體薄膜沉積設備和混合鍵合設備兩個產品系列。拓荊科技聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。

近年來，拓荊科技收入持續保持高速增長態勢，2019年至2024年營業收入復合增長率達74.83%。據之前披露的2024年年報，公司持續拓展產品布局，一方面加快產品迭代，另一方面推出有市場競爭力的新產品，業務規模不斷擴大，報告期公司營業收入達到41.03億元，同比增長51.70%。

對于一季度公司營業收入同比大增50.22%，拓荊科技表示，受益于國內下游晶圓制造廠對國內半導體設備的需求增加，公司不斷突破核心技術，新產品的客戶認可度逐步提升，核心競爭力進一步增強，報告期新產品實現批量驗證，收入繼續高速增長。

據介紹，報告期內，公司新產品、新工藝的設備銷售收入占比近70%，其客戶驗證過程成本較高，毛利率同比下降。報告期末，公司發出商品同比增長94%，為增強客戶端的響應速度并強化產品質量管控，其間費用投入同比增加5975.79萬元，為后續業務的穩步增長提供了保障。

拓荊科技始終將自主創新視為發展的核心驅動，并持續進行高強度的研發投入，保持核心競爭優勢。2025年第一季度，公司研發投入1.59億元，占營業收入的比例為22.38%。公司2022年至2024年研發投入合計達到17.11億元，占同期營業收入總額的20.09%。

在薄膜沉積設備方面，公司圍繞先進存儲芯片、先進邏輯芯片等制造領域的需求，持續推進多種型號高產能、高性能薄膜設備的研發與產業化應用，并取得突破性進展，逐步進入規模量產階段；在三維集成領域設備方面，公司積極推進新一代先進鍵合產品及配套量檢測產品的出貨/驗證，致力于為三維集成領域提供全面的技術解決方案。

另外，公司2025年第一季度經營活動產生的現金流量凈額實現由負轉正，較上年同期大幅增加，同比增加7.32億元，主要由于報告期內公司發貨量同比增加，報告期末在手訂單金額較2024年年末增長，公司預收貨款及銷售回款較上年同期均大幅增長。