光刻機(jī)概念4月1日盤中發(fā)力拉升，截至發(fā)稿，華融化學(xué)20%漲停，新萊應(yīng)材漲超10%，凱美特氣漲停斬獲四連板，紅寶麗、旭光電子、國風(fēng)新材等均漲停。

中信證券近日指出，光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，2024年全球市場規(guī)模超230億美元（SEMI數(shù)據(jù)），其中ASML處于絕對領(lǐng)先；2024年國內(nèi)市場規(guī)模超400億元（SEMI數(shù)據(jù)），但是跟據(jù)我們測算國產(chǎn)化率僅2.5%。目前半導(dǎo)體制造工藝節(jié)點(diǎn)縮小至5nm及以下，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟，但是國內(nèi)光刻機(jī)仍明顯落后于海外。同時，美國對中國先進(jìn)制程設(shè)備和技術(shù)圍追堵截，光刻機(jī)處于核心“卡脖子”狀態(tài)。不論當(dāng)前國內(nèi)光刻機(jī)實(shí)際進(jìn)展如何，國產(chǎn)高端光刻機(jī)的發(fā)展有望持續(xù)獲得推動，國產(chǎn)光刻機(jī)及產(chǎn)業(yè)鏈將同步受益，市場信心將持續(xù)增強(qiáng)。

校對：楊立林